반도체 제조 공정에서 사용되는 플라즈마(Plasma)
우리는 지난 시간에는 반도체 제조 공정 중, MFC가 사용되는 박막 증착(Thin Film deposition)과정과 식각(Etching)과정 에 대해 알아보았습니다. 반도체 제조 과정 중 MFC가 사용되는 박막 증착 과정(Thin Film...
반도체 제조 과정 중 Mass Flow Controller가 사용되는 식각(Etching)과정과 건식 식각(Dry Etching)
가스와 같은 기체의 유량을 측정하고 제어하는데 사용되는 질량 유량계(Mass Flow Meter / Controller - MFM / MFC)는 다양한 어플리케이션에서 사용되고 있습니다. 지난 시간에는 반도체 제조 공정 중, MFC가 사용되는...
반도체 제조 과정 중 Mass Flow Controller가 사용되는 박막 증착 과정(Thin Film Deposition)과 화학적 증착 방법(CVD)
질량 유량계, 질량 유량 제어기 라고 불리는 Mass Flow Meter / Mass Flow Controller 장비는 가스와 같은 기체의 유량을 측정하고 제어하는데 사용됩니다. 특히 기체의 유량을 제어할 수 있는 MFC는 기체를 지정한 유량만...